自社開発

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真空プラズマ処理装置

真空プラズマを使い表面の親水性や密着性を高める処理を行います。

真空プラズマ処理装置
装置全体
処理チャンバー(放電中)
処理チャンバー(放電中)

特徴

テフロン(PTFE)のような撥水性の高い材料表面の親水化が可能です。

処理効果の持続時間が長くなります。

仕様

プラズマ源 高周波放電
処理方式 枚葉、バッチ処理(ロール状サンプルもオプションで対応します)
応用分野 接着、印刷、塗工、コーティング
その他 ご要望に応じて各種オプションの設計製作も行います

処理例

親水化

未処理PTFE・処理後

密着性の改善(クロスカット試験)

Cu膜/未処理PET・処理後※Cu膜は、DCスパッタによる